• 고전압 저전류를 통한 낮은 전력 사용, 높은 PFCs 제거 효율
  ➜ 낮은 전력 소비로 높은 PFC 제거 효율
  ➜ 내부 Castable 사용으로 인한 내식성/보온성 강화
• 높은 내구성의 플라즈마 토치
  ➜ Indirect process gas contact, 2 Anode zones + 4 working N₂ nozzles
• PFCs 재결합 방지를 통한 높은 효율 (>95%)
  ➜ Steam Injection system
• 높은 N₂O 처리 효율 (>95%)

• 외부에서 대체 가능한 Torch
• 터치스크린 방식의 자동 PLC 제어 시스템
• 쉬운 Reactor/Wet 분해 장치
• 일체형 수처리 재순환 시스템

• 적용 공정 : CVD, Etch
• 처리 용량 : 500 slm